almrsal 6y0f 6y0f

كيمياء فيزيائية Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications

الموضوع في 'قسم الكيمياء' بواسطة albertnammas, بتاريخ ‏مايو 22, 2011.

  1. albertnammas

    albertnammas مشرف بالجامعة / درّة كتاب العرب إداري

    إنضم إلينا في:
    ‏يناير 25, 2009
    المشاركات:
    7,373
    الإعجابات المتلقاة:
    3,476
    نقاط الجوائز:
    128
    الجنس:
    ذكر
    الوظيفة:
    أستاذ جامعي/ دكتوراة
    مكان الإقامة:
    فلسطين - سيرين -




    Yosi Shacham-Diamand, Tetsuya Osaka, Madhav Datta,Takayuki Ohba, "Advanced Nanoscale ULSI Interconnects: Fundamentals and Applications"
    Springer | 2009 | ISBN: 0387958673 | 552 pages | PDF | 23,5 MB

    This book presents one of the new frontiers of modern electrochemistry science and technology: electrochemical processes for Ultra-large-Scale Integration (ULSI) technology for Integrated Circuits (ICs) applications. This is a field which influences our day to day life and still presents major technological and scientific challenges. This book reviews ULSI technology in light of all the novel electrochemical processes which make ULSI technology possible. The book will focus on sub-100 nm CMOS technology, mainly on copper-based metallization.


     
    أعجب بهذه المشاركة chemistry
  2. chemistry

    chemistry مستشار كلية العلوم النهرالخالد إداري

    إنضم إلينا في:
    ‏فبراير 5, 2007
    المشاركات:
    12,885
    الإعجابات المتلقاة:
    5,618
    نقاط الجوائز:
    128
    الجنس:
    ذكر
    بارك الله فيك اخى العزيز على هذا المجهود
     

مشاركة هذه الصفحة